Ausschreibungen und Aufträge: Deutschland Halbleiter Plasma-Ätzanlage -PR1241915-2270-W - DEU-München Halbleiter Dokument Nr...: 644382-2026 (ID: 2026091801141469148) Veröffentlicht: 18.09.2026 * DEU-München: Deutschland Halbleiter Plasma-Ätzanlage -PR1241915-2270-W 2026/S 181/2026 644382 Deutschland Halbleiter Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W OJ S 181/2026 18/09/2026 Bekanntmachung vergebener Aufträge oder Zuschlagsbekanntmachung Standardregelung Lieferleistungen 1. Beschaffer 1.1. Beschaffer Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12 E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de Rechtsform des Erwerbers: Öffentliches Unternehmen Tätigkeit des öffentlichen Auftraggebers: Allgemeine öffentliche Verwaltung 2. Verfahren 2.1. Verfahren Titel: Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W Beschreibung: Plasma-Ätzanlage Kennung des Verfahrens: 86c31d10-c294-4230-b79b-0827972738a0 Interne Kennung: PR1241915-2270-W Verfahrensart: Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb 2.1.1. Zweck Art des Auftrags: Lieferleistungen Haupteinstufung (cpv): 31712330 Halbleiter 2.1.2. Erfüllungsort Stadt: München Postleitzahl: 80686 Land, Gliederung (NUTS): München, Landkreis (DE21H) Land: Deutschland 2.1.4. Allgemeine Informationen Rechtsgrundlage: Richtlinie 2014/24/EU vgv - 5. Los 5.1. Los: LOT-0000 Titel: Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W Beschreibung: Many areas of semiconductors, MEMS, and 3D integration technologies - such as microfluidics, physical, optical, and chemical sensors, and emerging quantum mechanical devices such as so-called Qubits and their integration into silicon substrates - utilize the excellent properties of silicon. In particular, high-precision structuring methods have been developed for these applications. Micro- and nanochannels, membranes, valves, cantilevers, and through-silicon vias are manufactured using Si deep reactive ion etching (Si-DRIE) technology. As a standard etching gas, SF6 is employed in Silicon Deep Reactive Ion Etching (Si-DRIE) processes. SF6 is a potent greenhouse gas with a high global warming potential (GWP) of 25.300 CO2-equivalents. Although the semiconductor industry currently benefits from an exemption regarding SF6 usage, the duration of this exemption remains uncertain. Consequently, the identification of alternative gases to replace SF6 is becoming more important. One promising alternative is F2 gas mixtures. However, their implementation requires specialized modifications to both gas infrastructure and process kits. Hence, in addition to its fluorine compatibility, the requirements for the novel etching system should include scalability and a minimized process chamber volume compared to conventional plasma etching systems. This reduction in chamber volume decreases the total gas flow required, thereby enabling nearly complete gas utilization while minimizing gas-wall interactions. Consequently, faster gas switching times can be achieved in Bosch processes. A key feature of this new developed etching system is its Green Production concept, which focuses on the minimization and prevention of environmentally harmful gases. Furthermore, the system enables straightforward scaling of substrate sizes from 150 mm to 200 mm. Interne Kennung: LOT-0000 5.1.1. Zweck Art des Auftrags: Lieferleistungen Haupteinstufung (cpv): 31712330 Halbleiter 5.1.2. Erfüllungsort Stadt: München Postleitzahl: 80686 Land, Gliederung (NUTS): München, Landkreis (DE21H) Land: Deutschland 5.1.3. Geschätzte Dauer Datum des Beginns: 19/07/2027 Enddatum der Laufzeit: 23/07/2027 5.1.6. Allgemeine Informationen Auftragsvergabeprojekt nicht aus EU-Mitteln finanziert Die Beschaffung fällt unter das Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen: ja 5.1.7. Strategische Auftragsvergabe Ziel der strategischen Auftragsvergabe: Keine strategische Beschaffung 5.1.10. Zuschlagskriterien Kriterium: Art: Preis Bezeichnung: Preis Beschreibung: Preis Kategorie des Gewicht-Zuschlagskriteriums: Gewichtung (Prozentanteil, genau) Zuschlagskriterium Zahl: 100 5.1.15. Techniken Rahmenvereinbarung: Keine Rahmenvereinbarung Informationen über das dynamische Beschaffungssystem: Kein dynamisches Beschaffungssystem 5.1.16. Weitere Informationen, Schlichtung und Nachprüfung Überprüfungsstelle: Vergabekammern des Bundes Organisation, die zusätzliche Informationen über das Vergabeverfahren bereitstellt: Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12 Organisation, die weitere Informationen für die Nachprüfungsverfahren bereitstellt: Fraunhofer- Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 6. Ergebnisse Wert aller in dieser Bekanntmachung vergebenen Verträge: Nicht veröffentlicht Begründungscode: Gesetzesvollzug Direktvergabe : Begründung der Direktvergabe: Der Auftrag kann aus Gründen des Schutzes anderer Ausschließlichkeitsrechte, darunter auch Rechte des geistigen Eigentums, die sich von den in Artikel 5 Absatz 10 der Richtlinie 2014/23/EU definierten Rechten unterscheiden, nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden Sonstige Begründung: Wegen des Schutzes ausschließlicher Rechte ist kein Wettbewerb vorhanden, so dass ein Verhandlungsverfahren ohne Teilnahmewettbewerb mit nur einem Bieter auf der Grundlage des § 14 Abs. 4 Nr. 2 lit. c) VgV durchgeführt wird. 6.1. Ergebnis, Los- Kennung: LOT-0000 Status der Preisträgerauswahl: Es wurde mindestens ein Gewinner ermittelt. 6.1.2. Informationen über die Gewinner Wettbewerbsgewinner: Offizielle Bezeichnung: HQ-Dielectrics GmbH Angebot: Kennung des Angebots: TEN-0001 Kennung des Loses oder der Gruppe von Losen: LOT-0000 Wert des Angebots: Nicht veröffentlicht Begründungscode: Gesetzesvollzug Vergabe von Unteraufträgen: Nein Informationen zum Auftrag: Kennung des Auftrags: CON-0001 Datum des Vertragsabschlusses: 15/09/2026 6.1.4. Statistische Informationen Eingegangene Angebote oder Teilnahmeanträge: Art der eingegangenen Einreichungen: Angebote Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge: 1 Art der eingegangenen Einreichungen: Angebote auf elektronischem Wege eingereicht Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge: 1 Art der eingegangenen Einreichungen: Angebote von Kleinst-, kleinen oder mittleren Unternehmen Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge: 1 Art der eingegangenen Einreichungen: Angebote von Bietern, die in anderen Ländern des Europäischen Wirtschaftsraums registriert sind als dem Land des Beschaffers Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge: 0 Art der eingegangenen Einreichungen: Angebote von Bieter aus Ländern außerhalb des Europäischen Wirtschaftsraums Anzahl der eingegangenen Angebote oder Teilnahmeanträge: 0 8. Organisationen 8.1. ORG-7001 Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12 Registrierungsnummer: DE 129515865 Postanschrift: Hansastraße 27c Stadt: München Postleitzahl: 80686 Land, Gliederung (NUTS): München, Kreisfreie Stadt (DE212) Land: Deutschland Kontaktperson: Einkauf Wissenschaftliche Geräte E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de Telefon: +49891205-0 Internetadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/ Profil des Erwerbers: https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/ Rollen dieser Organisation: Beschaffer Organisation, die zusätzliche Informationen über das Vergabeverfahren bereitstellt 8.1. ORG-7004 Offizielle Bezeichnung: Vergabekammern des Bundes Registrierungsnummer: t:022894990 Postanschrift: Kaiser-Friedrich-Straße 16 Stadt: Bonn Postleitzahl: 53113 Land, Gliederung (NUTS): Bonn, Kreisfreie Stadt (DEA22) Land: Deutschland E-Mail: vk@bundeskartellamt.bund.de Telefon: +49 228 9499-0 Rollen dieser Organisation: Überprüfungsstelle 8.1. ORG-7005 Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. Registrierungsnummer: DE-129515865 Postanschrift: Hansastraße 27c Stadt: München Postleitzahl: 80686 Land, Gliederung (NUTS): München, Kreisfreie Stadt (DE212) Land: Deutschland E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de Telefon: +49 89 1205-0 Internetadresse: https://www.fraunhofer.de Rollen dieser Organisation: Organisation, die weitere Informationen für die Nachprüfungsverfahren bereitstellt 8.1. ORG-0001 Offizielle Bezeichnung: HQ-Dielectrics GmbH Größe des Wirtschaftsteilnehmers: Kleines Unternehmen Registrierungsnummer: DE268025856 Postanschrift: Postfach 49 Stadt: Dornstadt Postleitzahl: 89156 Land, Gliederung (NUTS): Alb-Donau-Kreis (DE145) Land: Deutschland E-Mail: info@hq-dielectrics.eu Telefon: +49 7348-204825 Fax: +49 7348-204928 Rollen dieser Organisation: Bieter Wirtschaftlicher Eigentümer: Gewinner dieser Lose: LOT-0000 8.1. ORG-7006 Offizielle Bezeichnung: Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI) Registrierungsnummer: 0204:994-DOEVD-83 Stadt: Bonn Postleitzahl: 53119 Land, Gliederung (NUTS): Bonn, Kreisfreie Stadt (DEA22) Land: Deutschland E-Mail: noreply.esender_hub@bescha.bund.de Telefon: +49228996100 Rollen dieser Organisation: TED eSender Informationen zur Bekanntmachung Kennung/Fassung der Bekanntmachung: a10edbef-7a88-42db-a298-313aa122c0c1 - 01 Formulartyp: Ergebnis Art der Bekanntmachung: Bekanntmachung vergebener Aufträge oder Zuschlagsbekanntmachung Standardregelung Unterart der Bekanntmachung: 29 Datum der Übermittlung der Bekanntmachung: 17/09/2026 09:08:29 (UTC+02:00) Osteuropäische Zeit, Mitteleuropäische Sommerzeit Sprachen, in denen diese Bekanntmachung offiziell verfügbar ist: Deutsch ABl. S Nummer der Ausgabe: 181/2026 Datum der Veröffentlichung: 18/09/2026 Referenzen: https://vergabe.fraunhofer.de/ https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/ https://www.fraunhofer.de http://icc-hofmann.net/NewsTicker/202609/ausschreibung-644382-2026-DEU.txt -------------------------------------------------------------------------------- Database Operation & Alert Service (icc-hofmann) for: The Office for Official Publications of the European Communities The Federal Office of Foreign Trade Information Phone: +49 6082-910101, Fax: +49 6082-910200, URL: http://www.icc-hofmann.de